Przedmiot: |
Wykład monograficzny |
Kierunek: |
Chemia, II stopień [4 sem], stacjonarny, ogólnoakademicki, rozpoczęty w: 2013 |
Specjalność: |
analityka chemiczna |
Tytuł lub szczegółowa nazwa przedmiotu: |
Wykład monograficzny |
Rok/Semestr: |
II/3
|
Liczba godzin: |
30,0 |
Nauczyciel: |
Komosa Andrzej, dr hab. |
Forma zajęć: |
wykład |
Rodzaj zaliczenia: |
egzamin |
Punkty ECTS: |
4,0 |
Godzinowe ekwiwalenty punktów ECTS (łączna liczba godzin w semestrze): |
0 |
Godziny kontaktowe z prowadzącym zajęcia realizowane w formie konsultacji |
30,0 |
Godziny kontaktowe z prowadzącym zajęcia realizowane w formie zajęć dydaktycznych |
0 |
Przygotowanie się studenta do zajęć dydaktycznych |
0 |
Przygotowanie się studenta do zaliczeń i/lub egzaminów |
0 |
Studiowanie przez studenta literatury przedmiotu |
|
Poziom trudności: |
zaawansowany
|
Wstępne wymagania: |
Wiedza na tematoddziaływania promieniowania elektromagnetycznego z ośrodkiem. Wiedza na temat własciwości promieniowania rentgenowskiego.
|
Metody dydaktyczne: |
- pokaz
- wykład informacyjny
- z użyciem komputera
|
Zakres tematów: |
Wykład monograficzny obejmuje zagadnienia związane z zastosowaniem metody fluorescencyjnej spektrometrii rentgenowskiej do analizy pierwiastków w różnych typach próbek. Przedstawione zostaną podstawy teoretyczne metody, aparatura pomiarowa, sposób przygotowania próbek, analiza widma promieniowania, wykonanieoznaczeń jakościoych i ilościowych.
-
Podstawy teoretyczne metody fluorescencyjnej spektrometrii rentgenowskiej (XRF)
-
Właściwości promieniowania rentgenowskiego, prawoMoseleya, promieniowanie fluorescencyjne.
-
Aparaturapomiarowa, metoda ED-XRF i WD_XRF: lampy rentgenowskie, detektory.
-
Widmo fluorescencyjne, interferencje, efekty matrycowe.
-
Przygotowanie próbek do pomiarów w zależnośći od stanu skupienia.
-
Analiza ilościowa metodą kalibracyjną i opartą na parametrachfundamentalnych.
-
Wpływ przygotowania i rodzaju próbkina wynik pomiaru.
-
Źródła błędów w analizie XRF.
-
Przykłady zastosowania metody XRF.
-
Demonstracja wykonywania pomiarów przy wykorzystaniu aparatu Epsilon 5 (Panalytical).
|
Forma oceniania: |
|
Warunki zaliczenia: |
Egzamin ustny
|
Literatura: |
Ze względu na brak literatury w języku polskim proponuje się zapoznanie z materiałami z internetu (w wersji angielskiej)
-
http://www.learnxrf.com/Principles_of_XRF.htm
-
http://www.bruker-axs.de/fileadmin/user_upload/xrfintro/index.html
-
P. Brouwer - Theory of XRF. Panalytical (Ed.), Almelo 2006.
|
Modułowe efekty kształcenia: |
01 |
Posiada pogłębioną wiedzę z wybranych działów chemii, rozumie znaczenie chemii dla postępu nauk ścisłych i przyrodniczych, poznania świata i rozwoju cywilizacji |
02 |
Posiada wysoce specjalistyczną wiedzę związaną z wybraną specjalnością i specjalizacją oraz realizowaną pracownią i seminarium magisterskim |
03 |
Potrafi zastosować posiadana wiedzę do rozwiązywania problemów o średnim poziomie złożoności, zarówno w zakresie teoretycznym jak i praktycznym |
04 |
Potrafi ocenić stan i perspektywy wybranych gałęzi przemysłu chemicznego w Polsce na tle sytuacji światowej. |
05 |
Potrafi określić kierunki dalszego uczenia się i realizować proces samokształcenia w zakresie wykładu monograficznego. |
06 |
Zna ograniczenia własnej wiedzy i rozumie konieczność dalszego kształcenia w zagadnieniach związanych z wykładem monograficznym. |
07 |
Potrafi formułować zagadnienia służące dalszemu pogłębianiu jego wiedzy. |
08 |
Rozumie ważność pozyskiwania informacji naukowych w literaturze z wykorzystaniem dostępnych, komputerowych baz danych, np. Science Direct. |
|